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內(nèi)容簡介:《晶體生長科學(xué)與技術(shù)(第二版）（下冊）》是一部在1981年出版的《晶體生長》基礎(chǔ)上進行擴充和改寫而成的集體創(chuàng)作。《晶體生長科學(xué)與技術(shù)(第二版）（下冊）》比較深入地論述了晶體生長的理論和技術(shù)，總結(jié)了國內(nèi)外的主要實踐經(jīng)驗和成果，重點介紹了我國在晶體領(lǐng)域中所取得的突出成就?！毒w生長科學(xué)與技術(shù)(第二版）（下冊）》共14章，分上、下冊出版?！毒w生長科學(xué)與技術(shù)(第二版）（下冊）》是下冊(第八章至第十四章)，主要介紹分子束外延及相關(guān)的單晶薄膜生長技術(shù)、人工寶石、合成云母、人造金剛石、新型非線性光學(xué)晶體及晶體品質(zhì)鑒定等。每章末尾提供了大量參考文獻，書末還附有主題詞索引和后記。

作者簡介:

目錄:目錄
下冊
《凝聚態(tài)物理學(xué)叢書》出版說明 i
第=版序 iii
第一版序 v
第八章 分子柬外延及相關(guān)的單晶薄膜生長技術(shù) 1
8.1 分子束外延技術(shù)概述 1
8.2 分子束外延設(shè)備 7
8.2.1 分子束爐及快門 10
8.2.2 RHEED（反射式高能電子衍射儀） 22
8.2.3 多室空氣隔離的超高真空系統(tǒng) 24
8.3 分子束外延生長過程 24
8.3.1 外延過程的描述 24
8.3.2 lII-V族化合物半導(dǎo)體 29
8.3.3 IV族元素半導(dǎo)體 35
8.3.4 II-VI族化合物半導(dǎo)體 39
8.4 分子束外延中的重要技術(shù) 42
8.4.1 高能電子衍射強度振蕩 42
8.4.2 脈沖束外延技術(shù) 47
8.4.3 氣體源分子束外延 50
8.5 分子束外延技術(shù)展望 53
參考文獻 54
第九章 人工寶石 張樂漶 吳星 傅林堂 葉安麗 佟學(xué)禮 57
9.1 焰熔法生長剛玉型彩色寶石 58
9.1.1 焰熔生長及其所需的原料制備與晶體著色 58
9.1.2 剮玉型寶石的晶體結(jié)構(gòu)與定向生長 59
9.1.3 焰熔晶體生長設(shè)備 62
9.1.4 寶石晶體的退火處理 69
9.2 石榴石型裝飾寶石的研制 71
9.2.1 稀土鎵石榴石的結(jié)構(gòu)和特點 71
9.2.2 稀土鎵石榴石的生長 73
9.2.3 摻質(zhì)、透過率及石榴石的輻照改色研究 74
9.2.4 結(jié)論 80
9.3 高頻冷坩堝技術(shù)和立方氧化鋯晶體生長 81
9.3.1 高頻冷坩堝技術(shù)的工作原理 82
9.3.2 高頻冷坩堝技術(shù)裝備 87
9.3.3 立方氧化鋯晶體的生長 90
9.3.4 立方氧化鋯晶體性能 93
9.3.5 冷坩堝技術(shù)的其他應(yīng)用和最新發(fā)展 109
9.4 其他合成寶石 112
9.4.1 助熔劑法紅寶石(α-Al2O3) 112
9.4.2 水熱法祖母綠[Be3AI2(SiO3)6] 113
9.5 寶石鑒定 114
9.5.1 肉眼鑒定 114
9.5.2 10倍放大鏡 115
9.5.3寶石儀器鑒定 115
9.6 宣石加工 117
9.6.1 寶石加工的光學(xué)原理 117
9.6.2 寶石加工工藝 120
9.6.3 寶石加工機械的選擇 125
9.6.4 寶石加工的發(fā)展方向 127
參考文獻 129
第十章 合成云母 131
10.1 無坩堝內(nèi)熱法合成云母 133
10 1.1 原理和工藝流程 133
10.1.2 晶塊內(nèi)云母晶體的生長特征 135
10.1.3 配料組成對晶體生長的影響 143
10.1.4 工藝條件對晶體生長的影響 144
10.2 坩堝下降晶種法合成云母 146
10.2.1 生長工藝 146
10.2.2 氟金云母的生長機理 148
10.2.3 晶體宏觀缺陷及其成因 155
10.2.4 熱工條件及其對晶體生長的影響 157
10.3 氫氣鋁絲爐坩堝法合成云母 160
10.4 合成云母的種類 163
10 4.1 云母晶體的異質(zhì)同最取代 163
10.4.2 水脹氟云母 164
10.4.3 彩色合成云母、含鐵氟云母和微晶云母 168
10.5 合成云母的結(jié)構(gòu)、性能和應(yīng)用 171
10.5.1 合成云母晶體結(jié)構(gòu) 171
10.5.2 合成云母的主要性能 177
10.5.3 合成云母的應(yīng)用 183
參考文獻 194
第十一章 人造金剛石 沈主同197
11.1 金剛石的結(jié)構(gòu)、形態(tài)和主要性質(zhì) 201
11.1.1 碳原子的電子結(jié)構(gòu)和晶體結(jié)構(gòu) 201
11.1.2 金剛石的晶體形態(tài)和缺陷 209
11.1.3 金剛石的主要性質(zhì) 215
11.2 人造金剛石的基本理論和合成機鉍 219
11.2.1 碳的壓力-溫度相圖 219
11.2.2 人造金剛石體系中的界面結(jié)合理論 222
11.2.3 直接法人造金剛石的合成機制 226
11.2.4 熔媒法人造金剛石的合成機制 234
11.2.5 外延法人造金剛石的合成機制 246
11.3 人造金剛石的主要合成技術(shù)和若干工藝 248
11.3.1 靜壓法人造金剛石 248
11.3.2 動壓法人造金剛石 260
11.3.3 低壓法人造金剛石 264
11.4 金剛石多晶薄膜 266
11.4.1 金剛石多晶薄膜的制備技術(shù) 267
11.4.2 金剛石多晶薄膜合成機制及有關(guān)問題 272
參考文獻 283
第十二章 有機晶體 288
12.1 有機化合物和晶體 288
12.1.1 有機化合物 288
12. 1.2 有機分子的種類與構(gòu)型 290
12. 1.3 有機晶體結(jié)構(gòu)特征 293
12. 1.4 有機固溶體晶體 299
12.1.5 有機晶體的電子特征 303
12.2 有機非線性光學(xué)晶體 307
12.2.1 頻率轉(zhuǎn)換晶體 307
12.2.2 有機電光晶體 331
12.2.3 三階有機非線性光學(xué)晶體 335
12.3 有機電學(xué)功能晶體 341
12.3.1 有機導(dǎo)電晶體 341
12.3.2 有機光導(dǎo)晶體 348
12.3.3 有機光折變晶體 353
12.4 有機晶體生長 356
12.4.1 有機體塊晶體生長 356
12.4.2 有機薄膜晶體生長 360
12.4.3 蛋白質(zhì)晶體生長 365
12.4.4 有機分子薄膜控制晶體生長技術(shù) 367
參考文獻 368
第十三章 新型非線性光學(xué)晶體 陳創(chuàng)天 俞琳華 374
13.1 引言 374
13.2 激光技術(shù)對非線性光學(xué)晶體的基本要求 376
13.3 非線性光學(xué)晶體的結(jié)構(gòu)與性能的相互關(guān)系 378
13.3.1 無機非線性光學(xué)晶體的陰離子基團理論 378
13.3.2 “陰離子基團理論”應(yīng)用的幾個實例 381
13.3.3 非線性光學(xué)晶體雙折射率的計算方法 386
13.3 非線性光學(xué)晶體吸收邊的計算方法 389
13.4 非線性光學(xué)晶體分子工程學(xué)研究 394
13.5 新型無機非線性光學(xué)晶體BBO，LBO，KBBF和SBBO的發(fā)現(xiàn)及其線性、非線性光學(xué)性質(zhì) 397
13.5.1 硼酸鹽體系中幾類主要的陰離子基團及其性質(zhì) 398
13.5.2 新型紫外非線性光學(xué)晶體BBO， LBO， KBBF和SBBO的概況 405
13.5.3 BBO， LBO: KBBF稻SBBO晶體的光學(xué)性質(zhì) 412
13.6 新型有機非線性光學(xué)晶體的探索 430
參考文獻 443
第十四章 晶體的品質(zhì)鑒定 劉琳 蔣培植 趙玉珍 447
14.1 晶體品質(zhì)鑒定的必要性 447
14.2 晶體的組分不完整性 449
14.2.1 晶體主成分 449
14.2.2 摻質(zhì)和雜質(zhì) 450
14.2.3 非化學(xué)比組成 451
14.2.4 成分分析 451
14.3 晶體結(jié)構(gòu)的不完整性 453
14.3.1 點缺陷 453
14.3.2 線缺陷 455
14.3.3 面缺陷 458
14 .3.4 體缺陷 450
14.4 晶體成分分析的常用方法 462
14.4.1 重量法與容量法 463
1-4.4.2 比色法與分光光度法 464
14.4.3 發(fā)射光譜法 465
14.4.4 電感耦合等離子體發(fā)射光譜法 466
14.4.5 激光光譜法 467
14.4.6 原子吸收光譜法 468
14.4.7 X射線熒光光譜法 469
14.5 光學(xué)顯微分析法 470
14.5.1 阿貝成象理論 478
14. 5.2 偏光顯微鏡 472
14.5.3 相襯顯微鏡 474
14.5.4 干涉顯微鏡 475
14.5.5 微分干涉襯度顯微鏡 477
14.5.6 侵蝕法 478
14.5.7 綴飾法 480
14.5.8 應(yīng)力雙折射法 481
14.5.9 激光層析法 483
14.6 X射線衍射分析法 485
14.6.1 物相分析 486
14.6.2 點陣常量的測量 489
14.6.3 單晶定向 490
14.6.4 X射線形貌術(shù) 492
14.7 電子束分析法 503
14.7.1 電子與物質(zhì)的相互作用 505
14.7.2 透射電子顯微鏡 506
14.7.3 掃描電子顯微鏡 503
14.7.4 電子探針 509
14.7.5 俄歇電子譜儀 511
14. 7.6 電子能量損失譜儀 511
14.7.7 低能電子衍射 513
14.7.8 反射高能電子衍射 514
14.8 離子束分析法 515
14.8.1 離子與物質(zhì)的相互作用 515
14.8.2 低能離子放射 516
14.8.3 高能背散射 517
14.8.4 離子探針 518
14.9 質(zhì)子束分析法 519
14.9.1 質(zhì)子激發(fā)X射線熒光分析 520
14.9.2 質(zhì)子探針（質(zhì)子顯微鏡） 521
14.10 其他分析法 522
14.10.1 場發(fā)射顯微鏡 522
14.10.2 場離子顯微鏡 523
14.10.3 原子探針場離子顯微鏡 S24
14. 10.4 穆斯堡爾譜 525
14.10.5 順磁共振 526
14. 10.6 核磁共振 527
14. 10.7 掃描隧道顯微鏡 529
14. 10.8 擴展X射線吸收精細(xì)結(jié)構(gòu) 531
14. 10.9 X射線光電子能譜分析 532
參考文獻 533
主題詞索引 537
后記 549
上冊
第一章 晶體生長熱力學(xué) 唐棣生 李沈軍
第二章 晶體生長動力學(xué) 張克從 陳萬春
第三章 溶液法生長晶體 高樟壽 蔣民華 王希敏
第四章 水熱法生長晶體 經(jīng)和貞
第五章 高溫溶液法生長晶體 蔣培植 賈維義
第六章 從熔體中生長晶體 姜彥島 常莢傳 任紹霞
第七章 半導(dǎo)體晶體生長 葉武中 陸大成